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可变周期多光束干涉光刻的方法

评论:0 发布时间:2020-03-25
行业领域:信息传输、软件和信息技术服务业 —— 软件和信息技术服务业
专利信息: 非专利技术
成熟度: 可以量产
技术合作方式: 完全转让 许可转让 技术入股 合作生产 其他
技术推广方式: 正在技术推广
技术交易价格: 面议
  • 信息描述
应用行业领域 电子信息-光电子
适用范围
成果内容简介 应用领域:于平板显示、生物传感、太阳能电池及自清洁结构研究领域。
现有技术的问题:现有的多光束干涉光刻系统的结构比较复杂,不方便调整各光束在样片表面的入射角。限制了该干涉镜头的实际应用。
本发明解决了现有多光束干涉光刻中光束入射角不易调节,光刻图形周期不能连续可调的技术问题,具有光路简单、图形周期易调节、能实现大面积多光束干涉光刻等优点。本发明提供的方法,包括激光器输出的激光经整形后由分光元件分为多束对称分布的发散光束; 经准直透镜后多束发散光束被准直为多束平行于光轴的平行光束;通过连续变倍扩束镜调节各平行光束离光轴的间距;由聚焦透镜对各光束进行聚焦,在焦面上形成多光束干涉图样; 将涂有光刻胶的样片置于聚焦透镜的焦面上实现多光束干涉光刻;调节连续变倍扩束镜改变各光束离光轴的距离,从而改变各光束干涉时的入射角,获得可变周期的多光束干涉光刻; 通过承片台在x-y 方向对干涉曝光场进行步进扫描拼接获得大面积曝光。
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