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一种复合光栅纳米光刻自动对准系统

评论:0 发布时间:2020-03-25
行业领域:信息传输、软件和信息技术服务业 —— 软件和信息技术服务业
专利信息: 非专利技术
成熟度: 可以量产
技术合作方式: 完全转让 许可转让 技术入股 合作生产 其他
技术推广方式: 正在技术推广
技术交易价格: 面议
  • 信息描述
应用行业领域 电子信息-光电子
适用范围
成果内容简介 应用领域:用于光刻中自动对准。克服现有技术的不足,提供一种复合光栅纳米光刻自动对准系统,使得该技术可以在同一个光栅标记上同时进行粗、精对准,易于操作,自动化程度高。
本发明公开了一种复合光栅纳米光刻自动对准系统,包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分;光路部分包括激光光源、准直成像透镜、掩模板、硅片、掩模复合光栅、硅片复合光栅、分光镜、透镜和 CCD 图像探测器;激光通过准直成像透镜系统形成平行光,透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅发生多次衍射,来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加,形成周期被放大的莫尔条纹,最后成像于 CCD 图像传感器上。条纹图像可以分为两部分:粗对准部分和精对准部分,对这两部分进行处理进而计算出掩模和硅片之间的相对位移,先后进行粗、精对准,通过电路控制硅片移动,使硅片与掩模完全对准。
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